Український半導体、製薬、研究室業界の主な違い
1. 異なる清浄度レベルの要件: 半導体の生産ラインでは、微粒子濃度に対する非常に厳しい要件を持つ ISO クラス 5 ～ 6 (またはそれ以上) のクリーンルームが使用されることがよくあります。医薬品GMPワークショップでは通常、クラス100～クラス1000が必要です。研究室では主にクラス 100 ～ クラス 10000 が必要で、実験の性質に応じて柔軟に調整されます。
2. 材料の適合性と滅菌方法: 半導体プロセスでは有機溶剤 (IPA など) や酸/アルカリ洗浄剤が使用されることが多く、耐薬品性と低発塵性のワイプが必要です。製薬業界は無菌性と高温滅菌を重視しており、滅菌済みのクリーンルーム用ワイプを使用することがよくあります。研究所では、化学試薬や生物学的サンプルの多様性を考慮して、ワイプの化学的不活性性についてさらに高い要件が求められます。
3. プロセスフローの影響 クリーンルーム用ワイパー 生地
半導体ウェーハの加工は表面の傷に非常に敏感であり、繊維抜けの少ない柔らかい生地が必要です。医薬品の包装と容器の洗浄は、液体吸収後に残留物がないことを優先します。研究室での定期的な清掃では、迅速な吸収と再利用可能な耐久性に重点を置いています。
4. 規制および品質基準
医薬品の製造は、GMP、ISO 13485、およびその他の医薬品規制基準に準拠する必要があります。半導体製造には JEDEC および NEBB 認証が必要です。研究所はほとんど ISO 14644-1 および研究所内の安全仕様に従っています。
クリーンルーム ワイパーは、アルコール、IPA 溶剤、または化学洗浄剤の使用をサポートしていますか?
1. 材料固有の耐薬品性
ほとんどのクリーンルーム ワイパーは 100% ポリエステルまたはマイクロファイバー構造を使用しており、アルコールや IPA などの溶剤を直接塗布して、繊維が脱落することなく洗浄できます。
2. メーカーの明示的な推奨
メーカーは、製品の説明書に、アルコール、IPA 溶液、またはその他の化学洗浄剤をクリーニングクロスに添加して使用でき、滅菌後もその性能が維持されると記載しています。
3. 使用上の安全上の注意
この材料は耐溶剤性がありますが、繊維構造への微細な損傷を防ぐために、高濃度の強酸や強アルカリは避けてください。使用後は液残りによる二次汚染を防ぐため、クロスに十分吸収させてから速やかに交換してください。
4. 洗浄効率の向上
適切な量のアルコールまたは IPA は、特に半導体および製薬プロセスにおいて、油汚れや粒子の除去効率を大幅に向上させ、低発塵を維持しながら迅速な除染を実現します。
クリーンルームワイパーの吸水性や低発塵性は実際の使用結果にどう影響するのでしょうか？
吸水性と低発塵性が使用実績に与える影響
1. 高い吸水性で洗浄効率が向上
ワイピングクロスは、マイクロファイバーまたはダブルニードルパンチポリエステル構造により、液体を素早く吸収し、大容量であるため、一度に大量の液体を除去し、複数回の拭き取りによる二次汚染を軽減します。
2.低発塵で二次汚染を防止
粒子の放出が少ない特性により、ワイピング中に浮遊繊維や塵が発生しないため、粒子が非常に敏感な半導体ウエハ表面や医薬品容器の内部に特に適しています。
3. 製品の歩留まりと品質への直接的な貢献
高清浄度環境では、吸液性と低発塵性の相乗効果により不良率が大幅に低減し、最終製品の歩留まりが向上します。研究室での使用では、サンプルと器具の清浄度を維持し、相互汚染を防ぎます。
4. 機器の互換性
自動洗浄装置で使用する場合、低発塵ワイピングクロスはろ過システムの詰まりや残留物を残さず、装置の長期安定した稼働を保証します。高い液体吸収性により、洗浄液の消費量が削減され、運転コストが削減されます。
